特許
J-GLOBAL ID：201103008876738931
レジスト材料
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
奥山 尚男
, 有原 幸一
, 奥山 尚一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-351335
公開番号（公開出願番号）：特開2001-166476
特許番号：特許第3790649号
出願日： 1999年12月10日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記一般式(1)
(式中、R1、R2は水素原子あるいは同一又は異種の炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基であって、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボニル基、エステル、アミノ基を含んでも良く、R3はtert-ブチル基であり、R1とR2が互いに結合して環を形成しても良い。)
で示される窒素含有化合物の1種または2種以上と、有機溶剤と、酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性または難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂と、酸発生剤とを含有し、上記窒素含有化合物が、上記ベース樹脂の全量100重量部に対して0.01〜2重量部含まれることを特徴とするポジ型レジスト材料。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, C08K 5/16 ( 200 6.01)
, C08L 101/00 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, C08K 5/16
, C08L 101/00
, G03F 7/038 601
