イオン注入装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：春日讓
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-263644
公開番号（公開出願番号）：特開2001-084949
特許番号：特許第3976455号
出願日： 1999年09月17日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】イオン源と、複数のウェハをディスクに搭載するとともに、このディスクを回転し、往復移動するウェハ搭載部とを有し、上記イオン源から出射されたイオンビームを、上記ウェハに照射して、イオンを注入するイオン注入装置において、上記ウェハ搭載部は、前記ディスクが回転する平面内で、前記ディスクを振り子状に往復動するものであり、また、上記往復移動運動の反転時に、上記ディスクを反転させる作用力に対して、上記ディスクの重力加速度の分力が同方向に作用するように構成したことを特徴とするイオン注入装置。

IPC (2件)：