特許
J-GLOBAL ID：201103032210663145

化学増幅型レジスト組成物、並びに、これを用いたモールドの作成方法、及び、レジスト膜

発明者：
藤森 亨

藤森 亨 について

, 
白川 浩司

白川 浩司 について

, 
宇佐 利裕

宇佐 利裕 について

, 
杉山 憲志

杉山 憲志 について

, 
伊藤 孝之

伊藤 孝之 について

, 
椿 英明

椿 英明 について

, 
西牧 克洋

西牧 克洋 について

, 
平野 修史

平野 修史 について

, 
高橋 秀知

高橋 秀知 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-142062
公開番号（公開出願番号）：特開2011-186418
出願日： 2010年06月22日
公開日（公表日）： 2011年09月22日
要約：
【課題】モールドの作成において、感度及び解像力に優れるとともに、ラインウィズスラフネス(LWR)性能にも優れたパターンを形成可能な、モールドの作成に用いられる化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】特定の酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有する化学増幅型レジスト組成物、並びに、これを用いたモールドの作成方法、及び、レジスト膜。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
モールド作成に用いられることを特徴とする、化学増幅型レジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/40 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/10
FI (6件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/40 521 ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 502D ,  C08F20/10
Fターム (69件)：
2H096AA30 ,  2H096BA11 ,  2H096EA06 ,  2H096HA23 ,  2H125AF15P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF34P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH05 ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ02Y ,  2H125AJ04X ,  2H125AJ08X ,  2H125AJ12Y ,  2H125AJ13Y ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ42X ,  2H125AJ42Y ,  2H125AJ48X ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ60Y ,  2H125AJ64Y ,  2H125AJ70Y ,  2H125AM66P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN63P ,  2H125AN67P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125CA30 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA50R ,  4J100BA56R ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC43R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38 ,  5F046AA28 ,  5F146AA28
引用特許：
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM