特許
J-GLOBAL ID：200903082699494153

インプリントモールドおよびインプリントモールド製造方法

発明者：
福上 典仁

福上 典仁 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-329345
公開番号（公開出願番号）：特開2008-142915
出願日： 2006年12月06日
公開日（公表日）： 2008年06月26日
要約：
【課題】インプリント法において、モールドパターン破壊を低減するインプリントモールドおよびその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明のインプリント用モールドは、凹凸状パターンの少なくとも凹部の角をラウンド形状にしたことを特徴とすることにより、インプリントにおけるモールド離型時に、モールド材料中の応力集中を緩和することが出来る。このため、モールドパターンの破壊を低減することが可能となる。特に、高アスペクト比のパターン転写であってもモールドパターン破壊を低減することが可能となる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
基板上に凹凸パターンが形成され、 前記基板の少なくとも表面が酸失活性を有し、 前記凹凸パターンにおける凹部の角がラウンド形状であること を特徴とするインプリントモールド。
IPC (6件)：
B29C 59/02 ,  B82B 1/00 ,  H01L 21/027 ,  B82B 3/00 ,  G03F 7/40 ,  G03F 7/11
FI (6件)：
B29C59/02 B ,  B82B1/00 ,  H01L21/30 502D ,  B82B3/00 ,  G03F7/40 521 ,  G03F7/11 503
Fターム (29件)：
2H025AA00 ,  2H025AA03 ,  2H025AB20 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025DA40 ,  2H025EA01 ,  2H025FA35 ,  2H096AA30 ,  2H096BA11 ,  2H096CA01 ,  2H096CA05 ,  2H096HA07 ,  2H096JA04 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AJ08 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PC07 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (1件)

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