特許
J-GLOBAL ID：201103034526839388
絶縁膜形成用組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-224780
公開番号（公開出願番号）：特開2001-049120
特許番号：特許第4320855号
出願日： 1999年08月09日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)(A-1)下記一般式(1)で表される化合物
R1aSi(OR2)4-a ・・・・・(1)
(R1は水素原子、フッ素原子または1価の有機基を示し、R2は1価の有機基を示し、aは0〜2の整数を表す。)
および(A-2)下記一般式(2)で表される化合物
R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c ・・・・・(2)
(R3,R4,R5およびR6は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示し、bおよびcは、同一でも異なっていてもよく、0〜2の数を示し、R7は-(CH2)n-で表される基を示し、nは1〜6を、dは0または1を示す。)
を加水分解縮合させて得られる分子量1,000〜120,000の縮合物ならびに
(B)(B-1)下記一般式(3)で表される溶剤および
R8O(CHCH3CH2O)eR9 ・・・・・(3)
(R8およびR9は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1〜4のアルキル基から選ばれる1価の有機基を示し、eは1〜2の整数を表す。)
(B-2)炭化水素系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アミド系溶剤から選ばれる少なくとも1種の溶剤を含有し、組成物中の(B-1)と(B-2)の使用割合が、(B-1):(B-2)=95:5〜40:60(重量比)であることを特徴とする絶縁膜形成用組成物。
IPC (6件)：
C08L 83/14 ( 200 6.01)
, C08G 77/50 ( 200 6.01)
, H01L 21/312 ( 200 6.01)
, H01L 21/768 ( 200 6.01)
, H01L 23/522 ( 200 6.01)
, B05D 5/12 ( 200 6.01)
C08L 83/14
, C08G 77/50
, H01L 21/312 C
, H01L 21/90 S
, B05D 5/12 D
出願人引用 (16件)
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審査官引用 (20件)
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