特許
J-GLOBAL ID:201103035648143437
粗化箔及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
絹谷 信雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-043069
公開番号(公開出願番号):特開2011-179053
出願日: 2010年02月26日
公開日(公表日): 2011年09月15日
要約:
【課題】圧延銅箔において粗化箔の表面粗度を低下させても、ピール強度の低下を抑えた粗化箔を提供する。【解決手段】圧延銅箔と粗化銅めっき層との間に、表面が平坦になるように0.1μm以上0.4μm以下の下地銅めっき層を形成し非常に効率良く圧延銅箔の凹部を埋めることで、粗化箔の表面粗度を低下させても粗化粒子を均一に析出させ、ピール強度の低下を抑えた粗化箔を形成する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
圧延銅箔上に、少なくとも粗化銅めっき層及び防錆処理層を順次形成してなる粗化箔において、前記圧延銅箔と前記粗化銅めっき層との間に下地銅めっき層が形成され、かつ、前記下地銅めっき層の粗化銅めっき層側の表面が平坦であり、さらに前記圧延銅箔の平坦部上の前記下地銅めっき層の厚さが0.1μm以上0.4μm以下であることを特徴とする粗化箔。
IPC (2件):
FI (2件):
C25D7/06 A
, C25D3/38 101
Fターム (14件):
4K023AA19
, 4K023BA06
, 4K023CB07
, 4K023CB33
, 4K024AA09
, 4K024AB02
, 4K024BA09
, 4K024BC02
, 4K024CA02
, 4K024CA04
, 4K024CA06
, 4K024DB03
, 4K024DB04
, 4K024GA12
引用特許:
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