特許
J-GLOBAL ID：201103050234572211 重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法
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出願人/特許権者： 公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-211343
公開番号（公開出願番号）：特開2004-051785
特許番号：特許第4236423号
出願日： 2002年07月19日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記式(1)
(式中、m、nはそれぞれ0〜3の整数を示し、R1は水素原子またはメチル基を示し、Z1は単環式飽和炭化水素構造または多環式飽和炭化水素構造を示す。ただし、mとnが同時に0であることはない。)
で表される構成単位から選ばれる1種又は2種以上を構成単位として含有し、質量平均分子量が1,000〜100,000であることを特徴とする重合体。
IPC (3件)：
C08F 20/28 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
C08F 20/28
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
