特許

J-GLOBAL ID：200903029719778155

(共)重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法

発明者： 安斎 竜一 ,  藤原 匡之 ,  上田 昭史
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-276560
公開番号（公開出願番号）：特開2004-051995
出願日： 2003年07月18日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】 波長250nm以下の光、特にArFエキシマレーザー光に対して高感度で、ドライエッチング耐性に優れ、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物用樹脂およびレジスト組成物、レジスト組成物に適したこのような樹脂の製造方法、並びに、このレジスト組成物を用いた微細なパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 下記式(1)〜(3)【化1】(式中、a〜fはそれぞれ0〜2の整数を示し、R1〜R3は水素原子またはメチル基を示し、Z1〜Z3は炭素数10〜22の多環式炭化水素構造を示す。)で表される構成単位から選ばれる1種又は2種以上を含む(共)重合体。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)〜(3)

IPC (3件)：

C08F20/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (3件)：

C08F20/28 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (26件)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA12 ,  4J100AL08P ,  4J100AL09P ,  4J100BA11P ,  4J100BC03P ,  4J100BC07P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC15P ,  4J100BC53P ,  4J100BC55P ,  4J100DA01 ,  4J100DA36 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (5件)

• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-050264   出願人：富士通株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-012406   出願人：住友化学工業株式会社
• ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-188853   出願人：日本電気株式会社
• 重合体、化学増幅型レジスト組成物、および、パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-368904   出願人：三菱レイヨン株式会社
• ラクトン構造を有する多環式化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-109446   出願人：三菱化学株式会社

審査官引用 (4件)

• 感放射線組成物およびパタン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-356969   出願人：株式会社日立製作所
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-051811   出願人：東京応化工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-128516   出願人：ジェイエスアール株式会社
• レジスト用樹脂および化学増幅型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-198161   出願人：三菱レイヨン株式会社