厚膜二酸化ケイ素の被覆方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-266406
公開番号（公開出願番号）：特開2001-089126
特許番号：特許第4230623号
出願日： 1999年09月21日
公開日（公表日）： 2001年04月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基体にポリシラザン溶液を塗布し、化学的処理して二酸化ケイ素膜を被覆する方法において、次の(A)〜(D)の各工程が順次行なわれることを特徴とする厚膜二酸化ケイ素の被覆方法。 (A)基体にポリシラザン溶液を塗布し、蒸発乾燥する工程、 (B)空気中で加熱処理する工程、 (C)加熱水蒸気で処理する工程、 (D)水蒸気を含むガス状のアミン系化合物で処理する工程。

IPC (2件)：