特許
J-GLOBAL ID：201103074984292730

膜形成用組成物の製造方法、膜形成用組成物、膜の形成方法およびシリカ系膜

発明者：
林 英治

林 英治 について

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長谷川 公一

長谷川 公一 について

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徐 榮秀

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出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-115139
公開番号（公開出願番号）：特開2001-294811
特許番号：特許第4483015号
出願日： 2000年04月17日
公開日（公表日）： 2001年10月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)下記一般式(1)で表される化合物、下記一般式(2)で表される化合物および下記一般式(3)で表される化合物の群から選ばれた少なくとも1種のシラン化合物を Ra Si(OR1 )4-a ・・・・・(1) (式中、Rは水素原子、フッ素原子または炭素数1〜5のアルキル基またはフェニル基、R1 は炭素数1〜5のアルキル基またはフェニル基、aは1〜2の整数を示す。) Si(OR2 )4 ・・・・・(2) (式中、R2 は炭素数1〜5のアルキル基またはフェニル基を示す。) R3b (R4 O)3-b Si-(R7 )d -Si(OR5 )3-c R6c・・・・(3) 〔式中、R3 〜R6 は同一または異なり、それぞれ炭素数1〜5のアルキル基またはフェニル基、bおよびcは同一または異なり、0〜2の数を示し、R7 は酸素原子、フェニレン基または-(CH2 )n -で表される基(ここで、nは1〜6の整数である)、dは0または1を示す。〕 (B)塩基性化合物、(C)水、(D)沸点100°C以下のアルコールおよび(E)下記一般式(4)で表される溶剤 R8O(CHCH3CH2O)eR9 ・・・・・(4) (R8およびR9は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはCH3CO-から選ばれる1価の有機基を示し、eは1〜2の整数を表す。) の存在下で加水分解し、縮合することを特徴とする膜形成用組成物の製造方法。
IPC (9件)：
C09D 183/04 ( 200 6.01) ,  C08G 77/02 ( 200 6.01) ,  C09D 5/00 ( 200 6.01) ,  C09D 183/02 ( 200 6.01) ,  C09D 5/25 ( 200 6.01) ,  H01L 21/312 ( 200 6.01) ,  H01L 21/316 ( 200 6.01) ,  H01L 21/768 ( 200 6.01) ,  H01L 23/522 ( 200 6.01)
FI (8件)：
C09D 183/04 ,  C08G 77/02 ,  C09D 5/00 Z ,  C09D 183/02 ,  C09D 5/25 ,  H01L 21/312 C ,  H01L 21/316 G ,  H01L 21/90 K
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (16件)
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