特許
J-GLOBAL ID：201103076158515687
レジスト積層物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-028235
公開番号（公開出願番号）：特開2001-215727
特許番号：特許第4210407号
出願日： 2000年02月04日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上に、下記一般式(I)で表される繰り返し構造単位を有する樹脂、加熱により酸を発生する化合物、及び酸により該樹脂を架橋する酸架橋性化合物を含有する層と、この上に珪素原子を含有する樹脂と活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物と界面活性剤とを含有するシリコン含有感輻射線性レジスト層を有することを特徴とするレジスト積層物。
式〔I〕中、Rは、アルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アシロキシ基又はアリーロキシ基を表し、複数のRは、各々同一でも異なっていてもよい。また、複数の置換基Rが互いに結合して環を形成しても良い。mは1又は2を表す。
IPC (5件)：
G03F 7/26 ( 200 6.01)
, G03F 7/11 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/075 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/26 511
, G03F 7/11 503
, G03F 7/039 601
, G03F 7/075 511
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 573
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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