特許
J-GLOBAL ID:200903019225395754

193NMリソグラフィーのためのヒドロキシ-アミノ熱硬化下塗り

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高木 千嘉 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-604269
公開番号(公開出願番号):特表2002-539473
出願日: 2000年03月10日
公開日(公表日): 2002年11月19日
要約:
【要約】本発明は熱硬化性ポリマー組成物、及びそれで被覆した光リソグラフィー基板に関し、前記組成物はヒドロキシル含有ポリマー、アミノ架橋剤及び熱酸発生剤からなる。熱硬化性ポリマー組成物は溶媒に溶解しそして深紫外光リソグラフィーにおける下塗り層として使用することができる。
請求項(抜粋):
ヒドロキシル含有ポリマー、アミノ架橋剤及び熱酸発生剤からなる熱硬化性ポリマー組成物。ここで前記ヒドロキシル含有ポリマーはシクロヘキサノール、ヒドロキシスチレン、ヒドロキシアルキルアクリレート又はメタクリレート、ヒドロキシシクロアルキルアクリレート又はメタクリレート、ヒドロキシアルキルシクロアルキルアクリレート又はメタクリレート、アリールアルキルアルコール及びアリルアルコールからなる群より選ばれるモノマー単位からなる。
IPC (5件):
G03F 7/11 503 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/26 511 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/027
FI (7件):
G03F 7/11 503 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/26 511 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 573 ,  H01L 21/30 574
Fターム (25件):
2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025DA40 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA41 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096CA05 ,  2H096EA03 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA23 ,  2H096KA06 ,  2H096KA19 ,  5F046NA05 ,  5F046NA12 ,  5F046NA15 ,  5F046PA08
引用特許:
審査官引用 (11件)
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