残存ガスの回収方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (6件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 鈴木三義 , 西和哉 , 村山靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-101386
公開番号（公開出願番号）：特開2011-230037
出願日： 2010年04月26日
公開日（公表日）： 2011年11月17日
要約：

【課題】シリンダーに残存する混合ガスを効率良く分離回収することで、より適切な除害処理やリサイクルを行うことが可能な残存ガスの回収方法を提供する。【解決手段】シリンダーに残存する混合ガスを、分子ふるい作用を有する気体分離膜を備える分離膜モジュールに連続的に供給し、前記混合ガスを分子径の小さなガス成分と分子径の大きなガス成分とに分離した後、前記分子径の小さなガス成分と前記分子径が大きなガス成分とをそれぞれ回収することを特徴とする残存ガスの回収方法を選択する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

シリンダーに残存する混合ガスを、分子ふるい作用を有する気体分離膜を備える分離膜モジュールに連続的に供給し、前記混合ガスを分子径の小さなガス成分と分子径の大きなガス成分とに分離した後、前記分子径の小さなガス成分と前記分子径が大きなガス成分とをそれぞれ回収することを特徴とする残存ガスの回収方法。

IPC (2件)：

B01D 53/22 , B01D 71/02

FI (2件)：

B01D53/22 , B01D71/02 500

Fターム (17件)：

4D006GA42 , 4D006HA02 , 4D006HA18 , 4D006KA11 , 4D006KA67 , 4D006KE07P , 4D006KE09P , 4D006KE24Q , 4D006KE28P , 4D006MA01 , 4D006MB04 , 4D006MC03 , 4D006MC05 , 4D006PA04 , 4D006PB20 , 4D006PB70 , 4D006PC01

引用特許：

審査官引用 (15件)

特定ガスの充填濃度調節器
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-231753 出願人：山陽電子工業株式会社
化合物半導体の製造装置から生ずる排気ガスから半導体特殊材料ガスの回収
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-140588 出願人：大阪酸素工業株式会社
半導体プロセスガスの供給方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-263093 出願人：日本酸素株式会社

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