特許
J-GLOBAL ID：201103091847937083
デバイス製造関連装置およびデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-370352
公開番号（公開出願番号）：特開2003-167328
特許番号：特許第4027085号
出願日： 2001年12月04日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ペリクルおよび前記ペリクルを支持するペリクル枠を有するペリクル付きレチクルを収容する空間を備えたデバイス製造関連装置であって、
前記ペリクル付きレチクルを移動可能に支持する支持台と、
前記ペリクル枠に設けられた第1の通気孔を介して、前記ペリクル、前記ペリクル枠および前記レチクルで囲まれた空間であるペリクル空間に不活性ガスを供給する供給ノズルと、
前記ペリクル枠に設けられた第2の通気孔を介して前記ペリクル空間内のガスを排気する排気ノズルと、
前記供給ノズルおよび前記排気ノズルの少なくとも一方を駆動する駆動機構とを有し、
前記駆動機構によって前記供給ノズルおよび前記排気ノズルの少なくとも一方を移動させることにより、前記支持台上に移動可能に載置された前記ペリクル付きレチクルの前記ペリクル枠を挟み込むように前記供給ノズルの先端と前記排気ノズルの先端とを前記ペリクル枠に押し付けて前記ペリクル付きレチクルを定位置に位置決めし、
前記供給ノズルの先端と前記排気ノズルの先端とを前記ペリクル枠に押し付けた状態で、前記供給ノズルおよび前記第1の通気孔を介して前記ペリクル空間に不活性ガスを供給し、かつ前記排気ノズルおよび前記第2の通気孔を介して前記ペリクル空間内のガスを排気する、
ことを特徴とするデバイス製造関連装置。
IPC (3件)：
G03F 1/14 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 1/14 K
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 516 F
