ペリクル及びペリクル付きフォトマスク

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：後藤洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-007715
公開番号（公開出願番号）：特開平9-197652
出願日： 1996年01月19日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：

【要約】【課題】ペリクルとレチクルで囲まれた空間に存在する空気中の水分及び酸素により生じるレチクル表面の劣化を低減するペリクル付きフォトマスク及びペリクルを提供することである。【解決手段】ペリクルはペリクル枠1の表面に透光性薄膜2を展着して形成される。ペリクル枠1は気体5を注入あるいは排気するための通気孔6と通気孔6を封止するための栓7を有している。このペリクルをレチクル3の表面及び裏面に装着した後、ペリクル枠1と透光性薄膜2とレチクル3とで囲まれた空間内に気体5を注入する。

請求項（抜粋）：

ペリクル枠の表面に透光性薄膜を展着したペリクルにおいて、前記ペリクル枠は、気体を注入あるいは排気するための少なくとも1つの通気孔と、該通気孔を封止するための栓を有していることを特徴とするペリクル。

IPC (2件)：

G03F 1/14 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/14 J , H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (26件)

特開昭60-022130
特開昭61-156128
特開昭61-166548

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