特許
J-GLOBAL ID：201103096071541720

感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品

発明者：
布村 昌隆

布村 昌隆 について

, 
山崎 範幸

山崎 範幸 について


出願人/特許権者：
日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社

日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 について


代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-086994
公開番号（公開出願番号）：特開2000-241973
特許番号：特許第3509612号
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (a)一般式(I);;化1::(式中、R1は4価の有機基を示し、R2はフェノール性水酸基を有する2価の有機基を示し、2つのR3は各々独立に1価の有機基を示す)で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸エステル、フェノール性水酸基を有するジアミンとテトラカルボン酸、その無水物又はその誘導体を原料として得られるポリイミド、ジカルボン酸とジヒドロキシジアミンを原料として得られるポリベンゾオキサゾール前駆体から選択されるアルカリ水溶液可溶性の重合体と、(b)o-キノンジアジド化合物と、(c)オニウム塩、ジアリール化合物、およびテトラアルキルアンモニウム塩から選ばれた少なくとも一種からなり、(a)成分のアルカリ水溶液に対する溶解を阻害する溶解阻害剤とを含有してなる感光性重合体組成物。;;化2::
IPC (8件)：
G03F 7/039 501 ,  C08K 5/28 ,  C08L 79/04 ,  C08L 79/08 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/037 501 ,  H01L 21/312
FI (8件)：
G03F 7/039 501 ,  C08K 5/28 ,  C08L 79/04 B ,  C08L 79/08 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/037 501 ,  H01L 21/312 D
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (23件)
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