特許
J-GLOBAL ID：201103099549523641

微細メッキ方法

発明者：
伊藤 亮

伊藤 亮 について


出願人/特許権者：
伊藤 亮

伊藤 亮 について


代理人 (1件)： 平石 利子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-347153
公開番号（公開出願番号）：特開2001-164374
特許番号：特許第4331840号
出願日： 1999年12月07日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (1)基体の表面にメッキを施す工程、 (2)メッキ部に適宜パターンで部分的に、基体を型の一部とする射出成形法により、水溶性高分子材料又は加水分解性高分子材料である第1の被覆を施す工程、 (3)第1の被覆部以外の部分のメッキを除去する工程、 (4)第1の被覆材を除去する工程、 (5)メッキ除去部及びメッキ残存部に渡って適宜パターンで部分的に、基体を型の一部とする射出成形法により、水溶性高分子材料又は加水分解性高分子材料である第2の被覆を施す工程、 (6)第2の被覆部以外の部分のメッキを除去する工程、 (7)第2の被覆材を除去する工程、 をこの順で経ることを特徴とする微細メッキ方法。
IPC (2件)：
C23C 18/18 ( 200 6.01) ,  C23C 18/31 ( 200 6.01)
FI (2件)：
C23C 18/18 ,  C23C 18/31 A
引用特許：
出願人引用 (17件)
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審査官引用 (24件)
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