シリカ粒子とその製造方法、及びそれを含む樹脂組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八木敏安
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-178811
公開番号（公開出願番号）：特開2011-173779
出願日： 2010年08月09日
公開日（公表日）： 2011年09月08日
要約：

【課題】粒度分布がシャープで、かつ、吸水率が低く、封止用樹脂組成物の充填材として好適に使用することができるシリカ粒子、その製造方法、及び、このシリカ粒子と樹脂とからなる樹脂組成物を提供する。【解決手段】50°C-湿度90%及び85°C-湿度85%条件下において500時間での吸水率が1.0%未満であり、D90/D10が3以下であり、真比重が2.1g/cm3以上であり、平均粒子径が10μm以下であるシリカ粒子。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

50°C-湿度90%及び85°C-湿度85%条件下において500時間での吸水率が1.0%未満であり、D90/D10が3以下であり、真比重が2.1g/cm3以上であり、平均粒子径が10μm以下であることを特徴とするシリカ粒子。

IPC (2件)：

C01B 33/159 , C01B 33/152

FI (2件)：

C01B33/159 , C01B33/152 B

Fターム (18件)：

4G072AA25 , 4G072AA41 , 4G072BB05 , 4G072CC11 , 4G072DD04 , 4G072DD05 , 4G072DD06 , 4G072GG02 , 4G072HH30 , 4G072JJ11 , 4G072JJ23 , 4G072JJ38 , 4G072QQ01 , 4G072QQ06 , 4G072RR21 , 4G072TT01 , 4G072TT04 , 4G072UU01

引用特許：

審査官引用 (16件)

焼成シリカ粒子およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-286985 出願人：株式会社日本触媒
表面処理されたシリカ粒子とその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-325990 出願人：株式会社日本触媒
高純度球状シリカの製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-105410 出願人：株式会社シアル

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引用文献：

審査官引用 (1件)

高純度シリカ製造と応用, 20020520, 普及版,第2刷, p.265

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