文献

J-GLOBAL ID：201202208707141414   整理番号：12A0960620

ペンタフルオロプロパンを吸収する紫外線硬化樹脂によって誘起された紫外線ナノインプリント樹脂パターンにおける形態的変化

Morphological Changes in Ultraviolet-Nanoimprinted Resin Patterns Caused by Ultraviolet-Curable Resins Absorbing Pentafluoropropane

著者 (11件)： KANEKO Shu (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KOBAYASHI Kei (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KOBAYASHI Kei (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  TSUKIDATE Yoshitaka (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  TSUKIDATE Yoshitaka (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  HIROSHIMA Hiroshi (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  HIROSHIMA Hiroshi (National Inst. Advance Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  MATSUI Shinji (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  MATSUI Shinji (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  NAKAGAWA Masaru (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  NAKAGAWA Masaru (JST-CREST, Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51  号： 6,Issue 2  ページ： 06FJ05.1-06FJ05.6  発行年： 2012年06月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ラジカル光重合を誘起するアクリレート型モノマーおよびUV硬化樹脂によって吸収されるペンタフルオロプロパン(PFP)の最大値を明らかにし,PFPによって飽和された状態における粘度を測定した。UVナノインプリンティングによって作製される樹脂パターンの形態に対する,UVナノインプリンティングで有効活用されるPFP凝縮性ガスの影響について報告した。樹脂およびモノマーの重量はPFP雰囲気に曝すことによって増大するが,一方,粘度は著しく減少する。PFPの吸収はモノマーの化学構造に依存する。Hoy法から計算した溶解度パラメータは,20(Jcm^-3)^1/2の溶解度パラメータを持つモノマーが大部分のPFPを吸収することを明瞭に示唆する。大量のPFPを吸収するモノマーから成るUV硬化樹脂によって,ナノインプリントされた樹脂パターンの形態的変化が生じて,高さが低下するとともに最外部表面が粗くなる。ヒドロキシル基を持つUV硬化樹脂は,UVナノインプリントされた樹脂パターンのサイズ忠実性の維持に重要な役割を果たすことがわかった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *光重合型樹脂 ,  パターン形成 ,  表面構造 ,  粘度 ,  溶解度パラメータ ,  表面粗さ ,  押付成形 ,  吸収 ,  パターン転写 ,  フロン ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  UVナノインプリント ,  *紫外線硬化樹脂 ,  表面モルフォロジー

分類 (2件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  高分子溶液・融液のレオロジー  (BL01013Z)

物質索引 (7件)： 1,1,2,2,3-ペンタフルオロプロパン ,  ビスアクリル酸ヘキサメチレン ,  2,5-ビス(アクリロイルオキシ)-4,7-メタノオクタヒドロ-1H-インデン ,  ビス(アクリル酸)2,9-ジヒドロキシ-6-メチル-4,7-ジオキサデカン-1,10-ジイル ,  ビス[2,2-ビス[(アクリロイルオキシ)メチル]ブチル]エーテル ,  ビス[2,2-ビス(アクリロイルオキシメチル)-3-(アクリロイルオキシ)プロピル]エーテル ,  アクリル酸2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル

引用文献 (30件)：

• 1) J. Haisma, M. Verheijen, K. van den Heuvel, and J. van den Berg: J. Vac. Sci. Technol. B 14 (1996) 4124.
• 2) G. M. Schmid, N. Khusnatdinov, C. B. Brooks, D. LaBrake, E. Thompson, and D. J. Resnick: Proc. SPIE 6921 (2008) 692109.
• 3) X. Liang, H. Tan, Z. Fu, and S. Y. Chou: Nanotechnology 18 (2007) 025303.
• 4) K. Selinidis, E. Thompson, G. Schmid, N. Stacey, J. Perez, J. Maltabes, D. J. Resnick, J. Yeo, H. Kim, and B. Eynon: Proc. SPIE 7028 (2008) 70280R.
• 5) Z. Ye, R. Ramos, C. B. Brooks, P. Hellebrekers, S. Carden, and D. La Brake: Proc. SPIE 7637 (2010) 76371A.

タイトルに関連する用語 (4件)： 紫外線硬化樹脂 ,  誘起 ,  紫外線ナノインプリント ,  形態