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J-GLOBAL ID：201202217033736688   整理番号：12A0960623

ペンタフルオロプロパンガス雰囲気下のステップアンドリピート紫外線ナノインプリンティング

Step and Repeat Ultraviolet Nanoimprinting under Pentafluoropropane Gas Ambient

著者 (19件)： IYOSHI Shuso (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  IYOSHI Shuso (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  OKADA Makoto (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  OKADA Makoto (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  OKADA Makoto (JSPS, Tokyo, JPN) ,  KATASE Tetsuya (MEISYO KIKO Co., Ltd., Hyogo, JPN) ,  TONE Katsuhiko (MEISYO KIKO Co., Ltd., Hyogo, JPN) ,  KOBAYASHI Kei (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KOBAYASHI Kei (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  KANEKO Shu (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KANEKO Shu (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  HARUYAMA Yuichi (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  HARUYAMA Yuichi (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  NAKAGAWA Masaru (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  NAKAGAWA Masaru (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  HIROSHIMA Hiroshi (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  HIROSHIMA Hiroshi (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  MATSUI Shinji (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  MATSUI Shinji (JST-CREST, Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51  号： 6,Issue 2  ページ： 06FJ08.1-06FJ08.6  発行年： 2012年06月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： UVナノインプリンティングプロセスにおいて,離型に対する衝撃を小さくするためにフッ素含有自己組織化単分子膜(F-SAM)のような付着防止層をモールド表面に移植する。インプリントステップが増加するに従い,これらの層は劣化すると考えられ,硬化樹脂膜における欠陥が生じることになる。本研究では,UVナノインプリンティングの連続多重ショットを空気中およびペンタフルオロプロパン(PFP)ガス雰囲気下で行い,全てのインプリントステップにおける離型力を決定した。実験から,PFP雰囲気中のインプリンティングでは空気中に比べて離型力が激的に減少することがわかった。付着防止層の劣化度を観察するために,225のインプリントステップ毎にモールド表面の水接触角を決定した。ある決まったインプリントステップの後において,PFP環境中の付着防止層の損傷もしくは汚染は空気中に比べて軽微であることがわかった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *押付成形 ,  ナノメータ加工 ,  紫外線 ,  単分子層 ,  自己組織化 ,  型 ,  雰囲気 ,  剥離 ,  操作 ,  光重合型樹脂 ,  フォトレジスト ,  フロン
準シソーラス用語： UVナノインプリンティング ,  *紫外線ナノインプリント ,  紫外線硬化樹脂 ,  自己組織化単分子膜 ,  離型

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： 1,1,2,2,3-ペンタフルオロプロパン

引用文献 (53件)：

• 1) S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom: Appl. Phys. Lett. 67 (1995) 3114.
• 2) S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom: Science 272 (1996) 85.
• 3) S. Y. Chou, P. R. Krauss, W. Zhang, L. Guo, and L. Zhuang: J. Vac. Sci. Technol. B 15 (1997) 2897.
• 4) J. Haisma, M. Verheijen, K. van den Heuvel, and J. van den Berg: J. Vac. Sci. Technol. B 14 (1996) 4124.
• 5) T. Bailey, B. J. Choi, M. Colburn, M. Meissl, S. Shaya, J. G. Ekerdt, S. V. Sreenivasan, and C. G. Willson: J. Vac. Sci. Technol. B 18 (2000) 3572.

タイトルに関連する用語 (3件)： 雰囲気 ,  紫外線 ,  ナノインプリンティング