薄い残留層条件下のペンタフルオロプロパンを用いたスピンコート膜における紫外線ナノインプリントのスループット

HIROSHIMA Hiroshi; HIROSHIMA Hiroshi; SUZUKI Kenta; SUZUKI Kenta; SUZUKI Kenta

文献

J-GLOBAL ID：201202226053659662 整理番号：12A0960625

薄い残留層条件下のペンタフルオロプロパンを用いたスピンコート膜における紫外線ナノインプリントのスループット

Throughput of Ultraviolet Nanoimprint in Pentafluoropropane Using Spin Coat Films under Thin Residual Layer Conditions

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著者 (5件)： , , , ,
資料名：
巻： 51 号： 6,Issue 2 ページ： 06FJ10.1-06FJ10.5 発行年： 2012年06月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

UVナノインプリントではUV硬化性樹脂は液滴として供給されるが,スループットの観点からは,いくつかのケースにおいて最善の手法ではない。与えられた配置のパターン密度が一様と見なされる場合には,他の決定的問題が生じない限りにおいて,UV硬化性樹脂は一様な厚みの膜として供給された方がよい。スピンコートUV硬化性樹脂,PAK-01を用いてペンタフルオロプロパン(PFP)中UV-NILにより20nmの残留層厚みで,45,65,および90nm幅の微細線-空間(L/S)パターンを首尾良く作製し,薄い残留層を持つ微細L/Sパターン作製に対するPFP中UV-NILのスループットを調べた。空気中のUV-NILの樹脂充填は15秒では完了しないが,PFP中のUV-NILでは0.6秒で完了する。PFP中のUV-NILの充填速度は空気中に比べて80倍速い。これは,著者等の以前の研究である300μm幅のパターン形成に対して1桁大きい値である。恐らく,高スループットプロセスはL/Sパターンの微細溝の高いキャピラリー圧に起因し,空気中のUV-NILでは打ち消されてしまうと思われる。PFP中のUV-NILに対しては,キャピラリー圧により2.2MPaの仮想インプリント圧が生成されていることがシミュレーションによりわかった。シミュレーションによって,完全充填時間が空間幅の自乗に比例し,40μm以下の空間幅に対して0.1秒で樹脂充填が完了することもわかった。(翻訳著者抄録)

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固体デバイス製造技術一般

引用文献 (32件)：

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