特許
J-GLOBAL ID：201203023698444895

レトルト装置

発明者：
金澤 健司

金澤 健司 について

, 
松川 泰三

松川 泰三 について


出願人/特許権者：
三浦工業株式会社

三浦工業株式会社 について


代理人 (1件)： 野田 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-254831
公開番号（公開出願番号）：特開2012-105550
出願日： 2010年11月15日
公開日（公表日）： 2012年06月07日
要約：
【課題】加熱処理できる被処理物の大きさや配置の自由度を確保でき利便性を向上することができるレトルト装置を提供する。【解決手段】複数の熱媒体噴射ノズル14は、収容部1204に収容された被処理物に、貯留部1202に貯留された熱媒体30を噴射させる。熱媒体30の噴射は、被処理物の側方から被処理物に向けて熱媒体30を噴射することでなされる。複数の蒸気噴射ノズル16は、処理槽12の内部に高温蒸気を噴射させる。高温蒸気の噴射は、複数の熱媒体噴射ノズル14から噴射される熱媒体30に向けてなされる。熱媒体循環回路22は、噴射された熱媒体30および高温蒸気が凝縮したドレンを貯留部1202から熱媒体噴射ノズル14に循環させ供給する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
処理槽に収容された被処理物に熱媒体を噴射させる複数の熱媒体噴射ノズルと、 前記処理槽の内部に高温蒸気を噴射させる複数の蒸気噴射ノズルと、 前記噴射された熱媒体および高温蒸気が凝縮したドレンを前記処理槽の底部から前記熱媒体噴射ノズルに循環させ供給する熱媒体循環回路と、 前記熱媒体噴射ノズルへの前記熱媒体の供給と、前記蒸気噴射ノズルへの前記高温蒸気の供給とを制御する制御手段とを備えるレトルト装置であって、 前記複数の熱媒体噴射ノズルによる前記熱媒体の噴射は、前記被処理物の側方から前記被処理物に向けてなされ、 前記複数の蒸気噴射ノズルによる前記高温蒸気の噴射は、前記複数の熱媒体噴射ノズルから噴射された前記熱媒体に向けてなされ、 前記制御手段は、前記熱媒体噴射ノズルから前記熱媒体を噴射させつつ前記蒸気噴射ノズルから前記高温蒸気を噴射させることによって、前記熱媒体を加熱しつつ前記処理槽内の温度を予め定められた目標温度まで加熱させ、前記処理槽内の温度が前記目標温度に到達したならば、前記蒸気噴射ノズルへの高温蒸気の供給を制御することにより前記処理槽内の温度を前記目標温度に維持させる、 ことを特徴とするレトルト装置。
IPC (1件)：
A23L 3/10
FI (1件)：
A23L3/10
Fターム (11件)：
4B021LP04 ,  4B021LT03 ,  4B021MC01 ,  4C058AA21 ,  4C058AA22 ,  4C058BB04 ,  4C058BB05 ,  4C058BB09 ,  4C058CC02 ,  4C058DD04 ,  4C058EE26
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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