特許
J-GLOBAL ID：201203035600025855

プラズマ生成用電極およびプラズマ処理装置

発明者：
南 雅人

南 雅人 について

, 
佐々木 芳彦

佐々木 芳彦 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-105406
公開番号（公開出願番号）：特開2012-238656
出願日： 2011年05月10日
公開日（公表日）： 2012年12月06日
要約：
【課題】FPD用の基板をプラズマ処理する際に異常放電やパーティクルの問題が生じ難いプラズマ生成用電極を提供すること。【解決手段】プラズマ生成用電極20は、チャンバ2内に配置されたフラットパネルディスプレイ用の基板Gとの対向面Fを有し、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材20aの表面に陽極酸化処理されて陽極酸化皮膜20bを有する本体と、本体の対向面Fに開口した複数のガス吐出孔22と、対向面Fにおいて、少なくともガス吐出孔22の開口部22cに形成されたセラミックス溶射皮膜23とを有し、対向面Fにおいてセラミックス溶射皮膜23の間の部分は、本体の面が露出している。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
フラットパネルディスプレイ用の基板をプラズマ処理する容量結合型のプラズマ処理装置の処理容器内にフラットパネルディスプレイ用の基板に対向して配置されるプラズマ生成用電極であって、 前記処理容器内に配置されたフラットパネルディスプレイ用の基板との対向面を有し、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材の表面に陽極酸化処理がされて構成され、少なくとも前記対向面が陽極酸化皮膜である本体と、 プラズマを生成するための処理ガスを前記処理容器内に導入するために、前記本体の前記対向面に開口した複数のガス吐出孔と、 前記対向面において、少なくとも前記ガス吐出孔の開口部に形成されたセラミックス溶射皮膜と を有し、 前記対向面において前記セラミックス溶射皮膜の間の部分は、前記本体の前記対向面が露出していることを特徴とするプラズマ生成用電極。
IPC (4件)：
H01L 21/306 ,  C23C 16/509 ,  C23C 4/10 ,  C23C 4/04
FI (5件)：
H01L21/302 101L ,  H01L21/302 101B ,  C23C16/509 ,  C23C4/10 ,  C23C4/04
Fターム (14件)：
4K030EA05 ,  4K030FA03 ,  4K030KA17 ,  4K030KA47 ,  4K031AA06 ,  4K031CB41 ,  4K031CB43 ,  4K031CB50 ,  4K031DA04 ,  5F004BA04 ,  5F004BB30 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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