光酸発生剤

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-255772
公開番号（公開出願番号）：特開2012-136511
出願日： 2011年11月24日
公開日（公表日）： 2012年07月19日
要約：

【課題】活性化放射線に露光される場合に、特に、改良されたリソグラフィのための放射線に露光されるフォトレジスト組成物に使用される場合に、低いガス放出特性を有する光酸発生剤化合物の提供。【解決手段】式(I)を有する光酸発生剤化合物:式中、Gは式(II)を有し:式(II)において、XはSもしくはIであり、各R0は等しくXに結合されており、かつ独立してC1-30アルキル基;多環式もしくは単環式C3-30シクロアルキル基;多環式もしくは単環式C6-30アリール基;または前述の少なくとも1種を含む組み合わせである;aは2もしくは3である;並びに式(I)におけるZはスルホン酸、スルホンイミドもしくはスルホンアミドのアニオンを含む。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)を有する化合物:

IPC (8件)：

C07C 43/29 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , C07C 381/12 , C07C 309/06 , C09K 3/00 , C08F 220/30 , H01L 21/027

FI (8件)：

C07C43/29 Z , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C07C381/12 , C07C309/06 , C09K3/00 K , C08F220/30 , H01L21/30 502R

Fターム (58件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF20P , 2H125AF27P , 2H125AF36P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH25 , 2H125AH29 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AM66P , 2H125AN39P , 2H125AN57P , 2H125AN82P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125CA12 , 2H125CB08 , 2H125CB09 , 2H125CB12 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125CD08P , 2H125CD35 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB92 , 4H006GP06 , 4H006GP22 , 4J100AB00Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100BA03Q , 4J100BA03S , 4J100BA11R , 4J100BB18Q , 4J100BC02P , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC04Q , 4J100BC09P , 4J100BC09S , 4J100BC43P , 4J100BC43Q , 4J100BC49P , 4J100BC49Q , 4J100BC53R , 4J100CA03 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (8件)

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-079221 出願人：富士写真フイルム株式会社
光酸発生剤のブレンドを含むフォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-042690 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-241014 出願人：東京応化工業株式会社

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審査官引用 (8件)

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-079221 出願人：富士写真フイルム株式会社
光酸発生剤のブレンドを含むフォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-042690 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-241014 出願人：東京応化工業株式会社

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