特許
J-GLOBAL ID:201203092190760793

CNT製造用の四層型触媒基体、基板炭化層付きCNT、炭化層付きCNT、CNT製法、CNT回収方法及びCNT連続製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三木 久巳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-030140
公開番号(公開出願番号):特開2012-166988
出願日: 2011年02月15日
公開日(公表日): 2012年09月06日
要約:
【課題】触媒層上に秀麗な配向CNTを合成でき、CNTを分離回収した後、基板層の再利用を実現することを目的とする。【解決手段】本発明のCNT製造用の四層型触媒基体1は、基板層2の上に耐熱性樹脂層4を形成し、前記耐熱性樹脂層4の上にAl層6を形成し、前記Al層6の上にCNT合成用の触媒層8を形成している。また、前記基板層2がベルト状に形成された基板ベルトであり、前記基板ベルトの上に前記耐熱性樹脂層4、前記Al層6及び前記触媒層8を積層して四層型触媒基体ベルトも提供できる。400°C以上、好適には500°C以上の耐熱温度を有した耐熱性樹脂層4を形成して、CNT合成時に耐熱性樹脂層4が基板層2と樹脂層8との反応を防ぎ、触媒層8上に配向CNTを合成でき、CNTを分離回収しても基板層2の表面は合成前の状態であり、基板ベルトを含む基板層2の再利用を実現できる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板層の上に耐熱性樹脂層を形成し、前記耐熱性樹脂層の上にAl層を形成し、前記Al層の上にCNT合成用の触媒層を形成したことを特徴とするCNT製造用の四層型触媒基体。
IPC (2件):
C01B 31/02 ,  B01J 23/74
FI (2件):
C01B31/02 101F ,  B01J23/74
Fターム (37件):
4G146AA11 ,  4G146AD05 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BB22 ,  4G146BB23 ,  4G146BC09 ,  4G146BC23 ,  4G146BC33B ,  4G146BC42 ,  4G146BC43 ,  4G146BC44 ,  4G146CA03 ,  4G146CA08 ,  4G146DA03 ,  4G146DA22 ,  4G146DA26 ,  4G146DA27 ,  4G146DA28 ,  4G146DA30 ,  4G146DA43 ,  4G146DA45 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BC16A ,  4G169BC16B ,  4G169BC59A ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BC75A ,  4G169CB81 ,  4G169DA06 ,  4G169EA08 ,  4G169EC28 ,  4G169FB02
引用特許:
審査官引用 (9件)
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引用文献:
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