特許
J-GLOBAL ID：201203093169502217

イオンエネルギー分布を制御するための方法および装置

発明者：
ヘックマン, ランディ

ヘックマン, ランディ について

, 
ブルーク, ビクター

ブルーク, ビクター について


出願人/特許権者：
アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッド

アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッド について


代理人 (3件)： 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-508593
公開番号（公開出願番号）：特表2012-525712
出願日： 2010年04月27日
公開日（公表日）： 2012年10月22日
要約：
プラズマチャンバ内のイオンエネルギーを調整するためのシステム、方法、および装置を開示する。例示的システムは、イオンエネルギー制御部分を含み、イオンエネルギー制御部分は、基板の表面に衝突するイオンのエネルギーの所望の分布を示す、少なくとも1つのイオンエネルギー設定に応答して、少なくとも1つのイオンエネルギー制御信号を提供する。コントローラは、スイッチモード電源に結合され、コントローラは、少なくとも2つの駆動制御信号を提供する。加えて、スイッチモード電源は、基板支持部、イオンエネルギー制御部分、およびコントローラに結合される。スイッチモード電源は、基板の表面に衝突するイオンのエネルギーの所望の分布を生じさせるように、駆動信号およびイオンエネルギー制御信号に応答して、基板に電力を印加するように構成される、スイッチング構成要素を含む。
請求項（抜粋）：
プラズマベースの処理のためのシステムであって、 プラズマを含むように構成されるプラズマ処理チャンバと、 該プラズマ処理チャンバ内に位置付けられ、基板を支持するように配置される基板支持部と、 イオンエネルギー制御部分であって、該イオンエネルギー制御部分は、該基板の表面において、イオンのエネルギーの所望の分布を示す少なくとも1つのイオンエネルギー設定に応答して、少なくとも1つのイオンエネルギー制御信号を提供する、イオンエネルギー制御部分と、 該イオンエネルギー制御部分に結合されるコントローラであって、1つ以上の駆動制御信号を提供する、コントローラと、 該基板支持部、該イオンエネルギー制御部分、および該コントローラに結合されるスイッチモード電源であって、該スイッチモード電源は、該基板の表面において、該イオンのエネルギーの所望の分布を生じさせるように、該1つ以上の駆動信号および該イオンエネルギー制御信号に応答して、該基板に電力を印加するように構成される、1つ以上のスイッチング構成要素を含む、スイッチモード電源と を備える、システム。
IPC (3件)：
H01L 21/306 ,  H05H 1/46 ,  H05H 1/00
FI (4件)：
H01L21/302 101C ,  H05H1/46 L ,  H05H1/46 R ,  H05H1/00 A
Fターム (9件)：
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB07 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BB32 ,  5F004CA03 ,  5F004CA06 ,  5F004CB20
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (12件)
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