レチクルを製造および検査するためのメカニズム

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-588700
特許番号：特許第4739527号
出願日： 1999年12月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】集積回路または該レチクルにおける処理を実行するシステムであって、前記集積回路の少なくとも一層のレイアウトパターンであって、特定フラグに関連付けられ前記集積回路または該レチクル上の第1の処理領域に対応する第1のレイアウト領域と、前記特定フラグに関連付けられずに前記集積回路または該レチクル上の第2の処理領域に対応する第2のレイアウト領域とを有するレイアウトパターンの電子表象を有する回路設計図を格納する格納部と、前記回路設計図から前記第1のレイアウト領域に関連付けられている前記特定フラグを読み取るフラグ読取部と、前記特定フラグが読み取られた前記第1のレイアウト領域に対応する前記第1の処理領域上で、前記第2の処理領域上で実行される第2の処理とは質的に異なる第1の処理を実行する処理部とを備えるシステム。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ( 200 6.01) , H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G03F 1/08 A , G03F 1/08 S , H01L 21/30 502 P

引用特許：

出願人引用 (16件)

特開昭59-117214
特開昭61-082425
特開昭61-140804

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審査官引用 (17件)

パターン検査方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-324548 出願人：株式会社東芝
マスク欠陥の検出方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-188984 出願人：ソニー株式会社
特開平3-278057

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