特許
J-GLOBAL ID：201303042429662543

基板処理装置、基板処理設備、及び基板処理方法

発明者：
キム ヒュンジョン

キム ヒュンジョン について


出願人/特許権者：
セメス株式会社

セメス株式会社 について


代理人 (7件)： 水尻 勝久 ,  竹尾 由重 ,  坂口 武 ,  北出 英敏 ,  仲石 晴樹 ,  時岡 恭平 ,  木村 豊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-166683
公開番号（公開出願番号）：特開2013-033965
出願日： 2012年07月27日
公開日（公表日）： 2013年02月14日
要約：
【課題】クラスター構造の基板処理装置、基板処理設備、及びこれを利用した基板処理方法を提供する。【解決手段】本発明による基板処理装置の一実施形態は、基板が収納される容器が搭載されるロードポートと、前記基板を処理する複数の工程モジュールと、前記ロードポートと前記工程モジュールとの間に配置され、前記容器と前記工程モジュールとの間に前記基板を搬送する移送モジュールと、互いに隣接する前記工程モジュールの間に配置され、前記互いに隣接する工程モジュールの間に前記基板が搬送される空間を提供するバッファチャンバーと、を含む。【選択図】図12
請求項（抜粋）：
基板が収納される容器が搭載されるロードポートと、 前記基板を処理する複数の工程モジュールと、 前記ロードポートと前記工程モジュールとの間に配置され、前記容器と前記工程モジュールとの間で前記基板を搬送する移送モジュールと、 互いに隣接する前記工程モジュールの間に配置され、前記互いに隣接する工程モジュールの間に前記基板が搬送される空間を提供するバッファチャンバーと、を含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/677 ,  B65G 49/06 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
H01L21/68 A ,  B65G49/06 Z ,  B65G49/07 C ,  H01L21/30 562
Fターム (42件)：
5F131AA02 ,  5F131AA03 ,  5F131BA03 ,  5F131BA11 ,  5F131BA15 ,  5F131BB03 ,  5F131BB04 ,  5F131BB18 ,  5F131CA33 ,  5F131CA35 ,  5F131DA02 ,  5F131DA05 ,  5F131DA32 ,  5F131DA33 ,  5F131DA36 ,  5F131DA42 ,  5F131DB02 ,  5F131DB58 ,  5F131DB62 ,  5F131DB72 ,  5F131DB76 ,  5F131DB82 ,  5F131DC03 ,  5F131DC04 ,  5F131DC06 ,  5F131GA14 ,  5F131GB03 ,  5F131GB13 ,  5F131GB23 ,  5F131GB28 ,  5F131GB29 ,  5F131HA14 ,  5F131HA23 ,  5F131HA28 ,  5F131JA08 ,  5F131JA09 ,  5F131JA10 ,  5F131JA23 ,  5F131JA28 ,  5F131JA32 ,  5F146MA12 ,  5F146MA19
引用特許：
審査官引用 (9件)
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