特許
J-GLOBAL ID：201303075000961351

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
釜淵 明

釜淵 明 について

, 
金 亨柱

金 亨柱 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-156436
公開番号（公開出願番号）：特開2013-041270
出願日： 2012年07月12日
公開日（公表日）： 2013年02月28日
要約：
【課題】CD均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを製造できるレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、式(II)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される構造単位を有する樹脂、 式(II)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び 酸発生剤を含有するレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/22 ,  C08F 20/38
FI (5件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/22 ,  C08F20/38
Fターム (44件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA20P ,  4J100BA34Q ,  4J100BB12P ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC83Q ,  4J100CA03 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (10件)
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