特許
J-GLOBAL ID：201403004614840774
ノズル式のプラズマエッチング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 武和国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-035544
公開番号（公開出願番号）：特開2014-212302
出願日： 2014年02月26日
公開日（公表日）： 2014年11月13日
要約：
【課題】小さなウェハであっても精度良くエッチングできるプラズマエッチング装置を提供する。【解決手段】本発明は、ウェハWが設置されるステージ6と、ステージ6を覆うチャンバ5と、チャンバ5内を真空引きする真空形成装置11と、チャンバ5に対向する位置に設けられたガス供給管5dと、ガス供給管5dの先端側の内部に取り付けられ、このガス供給管5dから供給されるエッチングガスGをウェハWへ略均等に吹き付けさせるノズル7と、ガス供給管5dに取り付けられガス供給管5d内のエッチングガスG中にマイクロプラズマを発生させるとともにラジカルを生成させるLF印加部8とを具備した構成とされている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ウェハが設置されるステージと、
このステージを覆うチャンバと、
このチャンバ内を真空引きする真空引き部と、
前記チャンバの前記ステージに対向する位置に設けられた管状のガス供給部と、
このガス供給部の先端側の内部に取り付けられ、このガス供給部から供給されるエッチングガスを前記ウェハへ略均等に吹き付けさせるノズルと、
前記ガス供給部に取り付けられ、このガス供給部内のエッチングガス中にマイクロプラズマを発生させるとともにラジカルを生成させるノズルプラズマ発生部と、
を具備したことを特徴とするプラズマエッチング装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/302 101E
, H05H1/46 M
5F004BA03
, 5F004BA04
, 5F004BA09
, 5F004BB28
, 5F004CA05
, 5F004CA06
, 5F004DA01
, 5F004DA23
, 5F004DB02
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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