特許
J-GLOBAL ID：201403041084925318

ダイヤモンドライクカーボン膜の成膜装置および形成方法

発明者：
西永 泰隆

西永 泰隆 について

, 
田中 勝己

田中 勝己 について

, 
チュウ チャオ キョン

チュウ チャオ キョン について


出願人/特許権者：
国立大学法人電気通信大学

国立大学法人電気通信大学 について


代理人 (2件)： 三好 秀和 ,  高橋 俊一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-098357
公開番号（公開出願番号）：特開2014-237890
出願日： 2014年05月12日
公開日（公表日）： 2014年12月18日
要約：
【課題】成膜に要する時間を短縮することができ、且つ膜品質を向上させることが可能なダイヤモンドライクカーボン膜の成膜装置およびその形成方法を提供する。【解決手段】ガス制御部22は、流動経路14が成膜温度に達するまで、キャリアガスをキャリアガス供給源20から流動経路14に供給するように制御すると共に、流動経路14が成膜温度に達した際に、炭素源が所定濃度で含まれるように、成膜用ガスをキャリアガス供給源20および炭化水素ガス供給源18から流動経路14に所定流量で供給するように制御するように構成されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ダイヤモンドライクカーボン膜を成膜する成膜対象物を配置し、成膜用ガスおよび前記成膜用ガス以外のガスを流動させる流動経路と、 水素ガス、窒素ガスまたはアルゴンガスの何れかを含むキャリアガスを所定流量で前記流動経路に供給するキャリアガス供給源と、 ケトン体、アルコール類またはカルボン酸の何れかのガスから成る炭素源を所定流量で前記流動経路に供給する炭素源ガス供給源と、 前記キャリアガス供給源および前記炭素源ガス供給源から前記流量経路へのガス流量を制御するガス制御部と、 前記流動経路の温度を上昇させる加温部と、 前記流動経路内の温度が所定温度となるように前記加温部を制御する温度制御部と、を備え、 前記ガス制御部は、前記流動経路が成膜温度に達するまで、前記キャリアガスを前記キャリアガス供給源から前記流動経路に供給するように制御すると共に、前記流動経路が成膜温度に達した際に、炭素源が所定濃度で含まれるように、前記成膜用ガスを前記キャリアガス供給源および前記炭化水素ガス供給源から前記流動経路に所定流量で供給するように制御することを特徴とするダイヤモンドライクカーボン膜の成膜装置。
IPC (2件)：
C23C 16/455 ,  C23C 16/26
FI (2件)：
C23C16/455 ,  C23C16/26
Fターム (15件)：
4K030AA09 ,  4K030AA17 ,  4K030BA28 ,  4K030BB05 ,  4K030CA02 ,  4K030CA05 ,  4K030DA03 ,  4K030DA08 ,  4K030EA01 ,  4K030EA03 ,  4K030FA10 ,  4K030JA06 ,  4K030JA10 ,  4K030KA09 ,  4K030KA41
引用特許：
審査官引用 (10件)
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