特許
J-GLOBAL ID：201403041903830500
設計ベースデバイスリスク評価
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-555475
公開番号（公開出願番号）：特表2014-507808
出願日： 2012年02月20日
公開日（公表日）： 2014年03月27日
要約：
本発明は、デバイスの設計データを利用して複数の関心のパターンを定義すること、関心のパターンのそれぞれに関連付けられる設計データを含む設計ベース分類(DBC)データベースを生成すること、1つまたは複数の検査結果を受取ること、検査結果を複数のPOIのそれぞれと比較することであって、それにより、検査結果内でのPOIの少なくとも1つの発生を特定する、比較すること、プロセス収率データを利用して各POIの収率影響を確定すること、POIのそれぞれの発生の頻度およびPOIのクリティカリティを監視することであって、それにより、デバイスのプロセスエクスカーションを特定する、監視すること、および、クリティカルポリゴンのそれぞれについての発生の頻度およびクリティカルポリゴンのそれぞれについてのクリティカリティを利用してデバイスについて正規化ポリゴン頻度を計算することによってデバイスリスクレベルを確定することを含み、クリティカルポリゴンは、デバイスの設計データを利用して定義される。
請求項（抜粋）：
デバイスの設計ベース評価のための方法であって、
前記デバイスの設計データを利用して複数の関心のパターンを定義すること、
前記関心のパターンのそれぞれに関連付けられる設計データを含む設計ベース分類データベースを生成すること、
1つまたは複数の検査結果を受取ること、
前記1つまたは複数の検査結果を前記複数の関心のパターンと比較することであって、それにより、前記検査結果内での前記関心のパターンの少なくとも1つの発生を特定する、比較すること、
プロセス収率データを利用してそれぞれの関心のパターンの収率影響を確定すること、
前記関心のパターンのそれぞれの発生の頻度および前記関心のパターンのクリティカリティを監視することであって、それにより、前記デバイスの1つまたは複数のプロセスエクスカーションを特定する、監視すること、および、
クリティカルポリゴンのそれぞれについての発生の頻度および前記クリティカルポリゴンのそれぞれについてのクリティカリティを利用して前記デバイスについて正規化ポリゴン頻度を計算することによってデバイスリスクレベルを確定することを含み、前記クリティカルポリゴンは、前記デバイスの設計データを利用して定義される方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/66 J
, H01L21/66 W
, G01N21/956 A
2G051AA51
, 2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051AC04
, 2G051BB05
, 2G051CA03
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051EB09
, 4M106AA01
, 4M106BA05
, 4M106CA39
, 4M106DB04
, 4M106DB08
, 4M106DJ18
, 4M106DJ21
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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