特許
J-GLOBAL ID：201403045613184103

積層体とその製造方法

発明者：
鈴木 哲也

鈴木 哲也 について

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白倉 昌

白倉 昌 について

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登坂 万結

登坂 万結 について


出願人/特許権者：
学校法人慶應義塾

学校法人慶應義塾 について


代理人 (3件)： 長谷部 善太郎 ,  山田 泰之 ,  児玉 喜博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-214125
公開番号（公開出願番号）：特開2014-065281
出願日： 2012年09月27日
公開日（公表日）： 2014年04月17日
要約：
【課題】外側面が高度の耐擦傷性及び耐摩耗性を有し、内側面が透明性に優れた、窓用等の用途に適する樹脂積層体及びその製造方法を提供する。この積層体は、プラズマCVD法によって作成するものであるが、常圧で製造できるので、経済性にも優れている。【解決手段】透明樹脂積層体は、透明樹脂基材と、該透明樹脂基材上の少なくとも片面に酸化ケイ素膜が形成されたものである。作成に当たっては、UV(紫外線)吸収剤を含むアクリル系等の硬化性樹脂がUV(紫外線)等のエネルギー線硬化により形成され、さらに該中間層上に酸化ケイ素膜層を形成するものであるが、特に外側面を構成する酸化ケイ素層が低密度と高密度の非晶質の酸化ケイ素膜の繰り返し構造から構成されているものであって、この酸化ケイ素膜の多層構造を常圧プラズマCVDによって形成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
プラスチック基材、中間層として光硬化樹脂からなる樹脂硬化膜、最外層として酸化ケイ素膜を有してなる積層体であって、 該酸化ケイ素膜は2層以上の単位酸化ケイ素膜が積層してなり、且つ0.2〜1μmの厚みを有しており、前記単位酸化ケイ素膜は、最外表面から深さ方向に10〜50nmの範囲の厚みを有する低密度層と、残りの厚みが高密度層からなり、該高密度層の密度は2.4〜2.8の範囲であり、上記低密度層は上記高密度層との境界から最外表面に向けて密度が連続的に0.2〜0.8の範囲で減少することを特徴とする積層体。
IPC (3件)：
B32B 9/00 ,  B32B 5/14 ,  C23C 16/42
FI (3件)：
B32B9/00 A ,  B32B5/14 ,  C23C16/42
Fターム (30件)：
4F100AA20A ,  4F100AK01B ,  4F100AK01C ,  4F100AK25C ,  4F100AK45C ,  4F100BA03 ,  4F100BA43A ,  4F100BA44A ,  4F100EH46 ,  4F100EJ42 ,  4F100EJ54 ,  4F100EJ61 ,  4F100EJ86 ,  4F100GB07 ,  4F100GB31 ,  4F100JA14A ,  4F100JA15A ,  4F100JB14B ,  4F100JK09 ,  4F100JK12 ,  4K030AA06 ,  4K030AA14 ,  4K030BA44 ,  4K030BB12 ,  4K030CA07 ,  4K030CA17 ,  4K030FA03 ,  4K030GA04 ,  4K030GA12 ,  4K030KA02
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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