特許
J-GLOBAL ID：201403086435480133
ウェーハの研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-112321
公開番号（公開出願番号）：特開2014-232783
出願日： 2013年05月28日
公開日（公表日）： 2014年12月11日
要約：
【課題】インデックス方式の研磨装置特有の研磨ステップ途中及び研磨終了後から剥離動作開始までに発生するヘイズムラやエッチングムラを効果的に防止することができる研磨方法。【解決手段】研磨ヘッドと、研磨布が貼り付けられた定盤を共に複数用い、研磨ヘッドを旋回移動させることで、研磨ヘッドで保持したウェーハの研磨に用いる定盤を切り替えながら、研磨剤をそれぞれの定盤上に供給しつつ、複数のウェーハを同時に研磨するインデックス方式の研磨方法であって、定盤を切り替える際のウェーハの研磨中断後から研磨再開までの時間とウェーハの研磨終了後から研磨ヘッドからの剥離動作開始までの時間を30秒以内とし、ウェーハの研磨中断後及び研磨終了後に、研磨ヘッドを回転させつつ、純水又は親水剤をノズルから噴射してウェーハの研磨面に付着した研磨剤の泡を除去することを特徴とするウェーハの研磨方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ウェーハを保持するための研磨ヘッドと、ウェーハを研磨するための研磨布が貼り付けられた定盤を共に複数用い、前記研磨ヘッドを旋回移動させることによって、前記研磨ヘッドで保持した前記ウェーハの研磨に用いる前記定盤を切り替えながら、研磨剤供給機構から研磨剤をそれぞれの前記定盤上に供給しつつ、複数のウェーハを同時に研磨するインデックス方式の研磨方法であって、
前記定盤を切り替える際の前記ウェーハの研磨中断後から研磨再開までの時間、及び、前記ウェーハの研磨終了後から前記研磨ヘッドからの剥離動作開始までの時間を30秒以内とし、前記ウェーハの研磨中断後及び研磨終了後に、前記研磨ヘッドを回転させつつ、純水又は親水剤をノズルから噴射して前記ウェーハの研磨面に付着した研磨剤の泡を除去することを特徴とするウェーハの研磨方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/304 622Q
, B24B37/00 X
3C058AA07
, 3C058AA18
, 3C058AB08
, 3C058AC01
, 3C058CA05
, 3C058DA17
, 5F057AA03
, 5F057BA11
, 5F057CA11
, 5F057DA02
, 5F057DA38
, 5F057FA37
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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