特許
J-GLOBAL ID：201503004040560775
レーザアニール装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
有近 紳志郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-137684
公開番号（公開出願番号）：特開2015-012204
出願日： 2013年07月01日
公開日（公表日）： 2015年01月19日
要約：
【課題】複数のレーザ発振器を有するレーザアニール装置において、個々のレーザ発振器ごとにパルスレーザ光の劣化を監視する。【解決手段】複数のレーザ発振器(1-1,1-2,......)から所定順で出射されたパルスレーザ光(L1,L2,......)が一つのパルスレーザ光(L)として被照射基板(B)に照射されるレーザアニール装置において、パルスレーザ光(L)を受光しその受光強度データ(I)を出力する受光手段(3)と、受光強度データ(I)からパルス1個ごとの波形データ(I(i))を抽出しレーザ発振器(1-1,1-2,......)の個々に対応付けして分析する制御部(4)とを具備する。【効果】複数のレーザ発振器の個々に対応してパルスレーザ光の劣化を監視できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数のレーザ発振器(1-1,1-2,......)を備え、各レーザ発振器(1-1,1-2,......)から所定順で出射されたパルスレーザ光(L1,L2,......)が一つのパルスレーザ光(L)として被照射基板(B)に照射されるレーザアニール装置において、前記パルスレーザ光(L)を受光しその受光強度データ(I)を出力する受光手段(3)と、前記受光強度データ(I)からパルス1個ごとの波形データ(I(i))を抽出し前記レーザ発振器(1-1,1-2,......)の個々に対応付けして分析する制御部(4)とを具備したことを特徴とするレーザアニール装置(100)。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/268 T
, H01L21/268 J
, H01L21/20
5F152CC02
, 5F152CE05
, 5F152EE02
, 5F152EE19
, 5F152FF03
, 5F152FF05
, 5F152FG04
, 5F152FG06
, 5F152FG29
, 5F152FH03
, 5F152FH19
