特許
J-GLOBAL ID：201503010463099552
成膜用マスク、マスク成膜方法、および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
磯野 道造
, 奈良 泰男
, 伊藤 直樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-265481
公開番号（公開出願番号）：特開2015-120961
出願日： 2013年12月24日
公開日（公表日）： 2015年07月02日
要約：
【課題】樹脂基材に対して所望の形状の膜を精密かつ再現性よく成膜することが可能な成膜用マスク、マスク成膜方法、および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することである。【解決手段】本発明に係る成膜用マスク1は、樹脂基材に膜を成膜する際に用いられる成膜用マスク1であって、開口部11aを有するマスク本体11と、前記マスク本体11を支持するマスクフレーム12と、を備え、20〜100°Cの温度範囲における平均線膨張係数について、前記樹脂基材の平均線膨張係数をA、前記マスクフレーム12の平均線膨張係数をB、前記マスク本体11の平均線膨張係数をCとした場合、A/C=10〜18、およびB/C=1.3〜6.5を満足することを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
樹脂基材に膜を成膜する際に用いられる成膜用マスクであって、
開口部を有するマスク本体と、
前記マスク本体を支持するマスクフレームと、を備え、
20〜100°Cの温度範囲における平均線膨張係数について、前記樹脂基材の平均線膨張係数をA、前記マスクフレームの平均線膨張係数をB、前記マスク本体の平均線膨張係数をCとした場合、A/C=10〜18、およびB/C=1.3〜6.5を満足することを特徴とする成膜用マスク。
IPC (4件)：
C23C 14/04
, H01L 51/50
, H05B 33/02
, H05B 33/10
C23C14/04 A
, H05B33/14 A
, H05B33/02
, H05B33/10
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC31
, 3K107CC45
, 3K107DD16
, 3K107FF05
, 3K107GG04
, 3K107GG05
, 3K107GG33
, 4K029AA11
, 4K029BA62
, 4K029CA01
, 4K029CA05
, 4K029HA02
, 4K029HA03
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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