特許
J-GLOBAL ID:201503018509794871

電解質膜・電極構造体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 千葉 剛宏 ,  宮寺 利幸 ,  大内 秀治 ,  仲宗根 康晴 ,  坂井 志郎 ,  山野 明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-269533
公開番号(公開出願番号):特開2015-125899
出願日: 2013年12月26日
公開日(公表日): 2015年07月06日
要約:
【課題】出力密度を良好に向上させることができる電解質膜・電極構造体を提供する。【解決手段】電解質膜・電極構造体12は、電解質膜46をアノード電極48とカソード電極50で挟持して構成される。締結荷重付与後のアノードガス拡散層54は、厚さが0.12〜0.17mm、表面抵抗率が0.70〜1.00Ω/□であり、カソードガス拡散層58は、厚さが0.15〜0.22mm、表面抵抗率が0.60〜0.70Ω/□である。また、カソードガス拡散層58に比して、アノードガス拡散層54の表面抵抗率が大きい。【選択図】図2
請求項(抜粋):
固体高分子膜からなる電解質膜をアノード電極とカソード電極で挟持した重畳体から構成される電解質膜・電極構造体であって、 前記アノード電極は、前記電解質膜に臨むアノード電極触媒層と、アノードガス拡散層とを有し、 前記カソード電極は、前記電解質膜に臨むカソード電極触媒層と、カソードガス拡散層とを有し、 前記重畳体に締結荷重が付与された後の前記アノードガス拡散層は、厚さが0.12〜0.17mm、表面抵抗率が0.70〜1.00Ω/□であり、 前記重畳体に締結荷重が付与された後の前記カソードガス拡散層は、厚さが0.15〜0.22mm、表面抵抗率が0.60〜0.70Ω/□であり、 前記アノードガス拡散層の表面抵抗率は、前記カソードガス拡散層に比して大きいことを特徴とする電解質膜・電極構造体。
IPC (3件):
H01M 4/86 ,  H01M 8/10 ,  H01M 8/02
FI (3件):
H01M4/86 M ,  H01M8/10 ,  H01M8/02 E
Fターム (6件):
5H018AA06 ,  5H018HH03 ,  5H018HH06 ,  5H026AA06 ,  5H026HH03 ,  5H026HH06
引用特許:
審査官引用 (14件)
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