特許
J-GLOBAL ID：201603000482250824
可動ステージシステム及びリソグラフィ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-555159
特許番号：特許第5919395号
出願日： 2013年01月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 オブジェクトを支持する可動ステージシステムであって、前記可動ステージシステムは、
前記オブジェクトを支持するショートストローク部と、
前記ショートストローク部を支持するロングストローク部であって、前記ショートストローク部が前記ロングストローク部に対して第1移動範囲にわたって移動可能であり、前記ロングストローク部が、前記ロングストローク部を支持するベース支持体に対して第2移動範囲にわたって移動可能であり、前記第2移動範囲が前記第1移動範囲よりも実質的に大きい、ロングストローク部と、
前記ショートストローク部と前記ロングストローク部との間に配置された遮蔽要素であって、前記ロングストローク部と前記ショートストローク部との間の空間内の、前記ロングストローク部の移動及び/又は変形によって引き起こされる圧力変動に対して前記ショートストローク部を遮蔽する遮蔽要素と、
前記遮蔽要素の位置関連量を制御する位置制御システムであって、前記位置制御システムが、前記遮蔽要素と前記ショートストローク部との間の実質的に一定の距離を維持し、前記位置制御システムが、前記ショートストローク部に対する前記遮蔽要素の位置関連量を決定するセンサと、決定された前記位置関連量に基づいて制御信号を提供するコントローラと、前記制御信号に基づいて前記遮蔽要素を駆動する少なくとも1つのアクチュエータと、を備え、前記アクチュエータが前記遮蔽要素と前記ロングストローク部との間又は前記遮蔽要素と前記ベース支持体との間に配置される、位置制御システムと、を備える可動ステージシステム。
IPC (3件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01)
, G03F 9/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/68 ( 200 6.01)
G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/68 F
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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