特許
J-GLOBAL ID：201603000658576640

処理装置および処理方法

発明者：
平林 英明

平林 英明 について

, 
長嶋 裕次

長嶋 裕次 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 日向寺 雅彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-224480
公開番号（公開出願番号）：特開2016-092189
出願日： 2014年11月04日
公開日（公表日）： 2016年05月23日
要約：
【課題】バッファードフッ酸を再利用する場合であっても処理レートの変動を抑制することができる処理装置および処理方法を提供することである。【解決手段】実施形態に係る処理装置は、バッファードフッ酸を収納する収納部と、前記バッファードフッ酸を用いて処理物の処理を行う処理部と、前記収納部に収納された前記バッファードフッ酸を前記処理部に供給する供給部と、前記処理部において使用された前記バッファードフッ酸を回収して前記収納部に供給する回収部と、前記バッファードフッ酸の蒸発量を演算する演算部と、アンモニアと、水と、を含み、前記演算されたバッファードフッ酸の蒸発量と同じ量の補充液を前記バッファードフッ酸に供給する補充液供給部と、を備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
バッファードフッ酸を収納する収納部と、 前記バッファードフッ酸を用いて処理物の処理を行う処理部と、 前記収納部に収納された前記バッファードフッ酸を前記処理部に供給する供給部と、 前記処理部において使用された前記バッファードフッ酸を回収して前記収納部に供給する回収部と、 前記バッファードフッ酸の蒸発量を演算する演算部と、 アンモニアと、水と、を含み、前記演算されたバッファードフッ酸の蒸発量と同じ量の補充液を前記バッファードフッ酸に供給する補充液供給部と、 を備えた処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/304
FI (4件)：
H01L21/306 J ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/304 648K
Fターム (19件)：
5F043EE02 ,  5F043EE23 ,  5F043EE33 ,  5F157AC01 ,  5F157BC03 ,  5F157BC07 ,  5F157BC13 ,  5F157BC53 ,  5F157BE12 ,  5F157BE33 ,  5F157BE34 ,  5F157BE46 ,  5F157CD34 ,  5F157CE37 ,  5F157CE86 ,  5F157DB03 ,  5F157DB18 ,  5F157DB41 ,  5F157DC84
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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