特許
J-GLOBAL ID：201603001022291910
基板洗浄方法、基板洗浄装置及び真空処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-040647
公開番号（公開出願番号）：特開2013-175681
特許番号：特許第5984424号
出願日： 2012年02月27日
公開日（公表日）： 2013年09月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】ガスクラスターを基板に照射することにより、基板に付着しているパーティクルを除去する基板洗浄方法において、
基板に付着しているパーティクルについて粒径を含むパーティクル情報を取得する工程と、
前記工程で取得されたパーティクル情報に基づいて、洗浄用のガスの原子または分子の集合体であるガスクラスターの粒径に係わる因子を調整する工程と、
その後、基板の置かれる処理雰囲気よりも圧力の高い領域から、処理雰囲気に前記洗浄用のガスを吐出し、断熱膨張により前記ガスクラスターを生成させる工程と、
前記ガスクラスターを基板の表面に垂直に照射してパーティクルを除去する工程と、を含むことを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (1件)：
FI (3件)：
H01L 21/304 645 Z
, H01L 21/304 648 G
, H01L 21/304 648 A
