特許
J-GLOBAL ID：201603006946507856

光照射装置

発明者：
廣瀬 賢一

廣瀬 賢一 について


出願人/特許権者：
ウシオ電機株式会社

ウシオ電機株式会社 について


代理人 (1件)： 大井 正彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-266564
公開番号（公開出願番号）：特開2015-120129
特許番号：特許第5895929号
出願日： 2013年12月25日
公開日（公表日）： 2015年07月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被処理物が内部に配置される処理室と、前記被処理物に対して真空紫外線を出射する紫外線出射ランプと、前記処理室内に活性種源を含む処理用ガスを供給するガス供給手段とを備えた光照射装置であって、 前記処理室における被処理物配置領域の両側に、当該処理室に処理用ガスを供給するためのガス供給口および当該処理室内のガスを排出するガス排出口が設けられることによって、当該処理室内に当該ガス供給口から当該ガス排出口に向かって処理用ガスが流通するガス流路が形成されており、 前記ガス流路に、前記処理室からガスを漏洩するガス漏洩部が形成されており、 前記ガス供給口におけるガス量の、前記ガス排出口における到達度が、60〜95%に制御されることを特徴とする光照射装置。
IPC (5件)：
B08B 7/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H05K 3/26 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (6件)：
B08B 7/00 ,  H01L 21/302 104 H ,  H05K 3/26 A ,  H01L 21/304 645 D ,  H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/30 572 A
引用特許：
審査官引用 (8件)
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