スラリー及び/又は化学ブレンド供給装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 小林良博 , 蛯谷厚志
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-542745
公開番号（公開出願番号）：特表2015-536239
出願日： 2013年11月13日
公開日（公表日）： 2015年12月21日
要約：

スラリー及び/又は化学ブレンドを、化学機械平坦化(CMP)ツール、又は半導体作製設備におけるその他のツールに提供するのに好適な、スラリー及び/又は化学ブレンド供給装置、関連プロセス、使用方法、及び製造方法。スラリー及び/又は化学ブレンド供給装置は、以下の:送出モジュール、混合モジュール、分析モジュール、及び分配モジュールの、1つ以上を備える。【選択図】図1A

請求項（抜粋）：

パイプの中で、2つ以上の流れている成分流を1つにして、混合スラリー及び/又は化学ブレンドを形成する混合モジュールを備えた、スラリー及び/又は化学ブレンド供給装置であって、前記混合モジュールは、各成分流用のパイプと、前記成分の流速を制御するために、前記成分パイプのうちの少なくとも2つの各々に少なくとも1つの流量コントローラーとを備え、前記成分パイプは連結され合流し単一パイプとなり、混合スラリー又は混合化学ブレンド流を形成する、供給装置。

IPC (12件)：

B01F 15/02 , B01F 3/08 , B01F 5/00 , B01F 5/02 , B01F 5/12 , B01F 5/16 , B01F 15/00 , B01F 5/10 , B01F 1/00 , B01F 5/04 , B01F 15/04 , G01N 1/00

FI (14件)：

B01F15/02 C , B01F3/08 Z , B01F5/00 D , B01F5/02 A , B01F5/12 , B01F5/16 , B01F15/00 Z , B01F15/02 A , B01F5/10 , B01F1/00 Z , B01F5/04 , B01F15/04 D , B01F5/00 A , G01N1/00 101G

Fターム (38件)：

2G052AA13 , 2G052CA04 , 2G052CA12 , 2G052CA35 , 2G052EA03 , 2G052FB03 , 2G052FB07 , 2G052GA23 , 2G052JA07 , 4G035AA16 , 4G035AB37 , 4G035AB38 , 4G035AC01 , 4G035AC15 , 4G035AC24 , 4G035AC29 , 4G035AC30 , 4G035AC33 , 4G035AC35 , 4G035AC50 , 4G035AE03 , 4G035AE13 , 4G037AA02 , 4G037AA13 , 4G037AA18 , 4G037BA01 , 4G037BB06 , 4G037BB23 , 4G037BC05 , 4G037BD01 , 4G037BD04 , 4G037BD06 , 4G037BD10 , 4G037BE02 , 4G037BE04 , 4G037DA18 , 4G037DA30 , 4G037EA01

引用特許：

審査官引用 (10件)

研磨液供給装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-103809 出願人：松下電器産業株式会社
スラリー混合供給装置及びスラリー混合供給方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-174059 出願人：エム・エフエスアイ株式会社
スラリー混合装置及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-296432 出願人：ザ・ビーオーシー・グループ・インコーポレーテッド

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