処理液供給装置およびこれを備えた基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：杉谷勉 , 戸高弘幸 , 杉谷知彦 , 栗原要
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-245176
公開番号（公開出願番号）：特開2014-093507
特許番号：特許第6029939号
出願日： 2012年11月07日
公開日（公表日）： 2014年05月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】複数の処理部に対して処理液を供給する処理液供給装置であって、各処理部に関連して設けられ、対応する処理部に向けて処理液を圧送するポンプと、ポンプの一次側における処理液の流路を、処理部ごとに開閉する複数の弁部材と、を備え、各処理部は、個別に電源を投入・遮断可能に構成されており、処理部の電源が遮断されたときには、その処理部に対応する弁部材は閉止し、前記処理部のそれぞれは、処理ユニットと、処理ユニットに基板を搬送する主搬送機構を有し、基板に一連の処理を行う基板処理列である処理液供給装置。

IPC (2件)：