特許
J-GLOBAL ID：201603014077696816

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
松井 則政

松井 則政 について


出願人/特許権者：
株式会社SCREENホールディングス

株式会社SCREENホールディングス について


代理人 (3件)： 振角 正一 ,  梁瀬 右司 ,  大西 一正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-197927
公開番号（公開出願番号）：特開2016-072324
出願日： 2014年09月29日
公開日（公表日）： 2016年05月09日
要約：
【課題】スループット低下やランニングコスト増大を防止しつつ、薬液を用いた基板の表面に対する処理を優れた面内均一性で行う。【解決手段】基板の表面を鉛直上方に向けた状態で前記基板を略水平姿勢で保持して回転させる基板保持回転手段と、基板保持回転手段に保持された基板の表面と対向する基板対向部材を有する雰囲気遮断手段と、備え、雰囲気遮断手段は、回転する基板の表面の回転中心近傍に薬液を供給する薬液供給部と、基板の表面に薬液の蒸気を供給する薬液蒸気供給部と、基板対向部材を加熱する加熱部とを有し、基板対向部材は基板の表面の面積と略同等以上の面積を有する基板対向面を有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板の表面を鉛直上方に向けた状態で前記基板を略水平姿勢で保持して回転させる基板保持回転手段と、 前記基板保持回転手段に保持された前記基板の前記表面と対向する基板対向部材を有する雰囲気遮断手段と、 を備え、 前記雰囲気遮断手段は、回転する前記基板の前記表面の回転中心近傍に薬液を供給する薬液供給部と、前記基板の前記表面に前記薬液の蒸気を供給する薬液蒸気供給部と、前記基板対向部材を加熱する加熱部とを有し、 前記基板対向部材は前記基板の前記表面の面積と略同等以上の面積を有する基板対向面を有する ことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/304
FI (3件)：
H01L21/306 R ,  H01L21/304 645B ,  H01L21/304 643A
Fターム (26件)：
5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE09 ,  5F043EE10 ,  5F157AA28 ,  5F157AA29 ,  5F157AA36 ,  5F157AA43 ,  5F157AA46 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC26 ,  5F157BB23 ,  5F157BB32 ,  5F157BB66 ,  5F157BC01 ,  5F157BC12 ,  5F157BH21 ,  5F157CB03 ,  5F157CB13 ,  5F157CB15 ,  5F157DB02 ,  5F157DB37
引用特許：
審査官引用 (7件)
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