特許
J-GLOBAL ID：201603016520042231
積層体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
辻居 幸一
, 熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 西島 孝喜
, 須田 洋之
, 上杉 浩
, 豊島 匠二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-156281
公開番号（公開出願番号）：特開2013-049916
特許番号：特許第5959099号
出願日： 2012年07月12日
公開日（公表日）： 2013年03月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 長尺の基体に連続的に真空成膜を行って膜材料の積層体を製造する方法であって、
a) ロール状に巻かれた長尺の基体を第1ロール室から第2ロール室へ向う第1の方向に前記第1ロール室から繰り出す段階、
b) 前記第1の方向に繰り出された前記基体を脱ガスする段階、
c) 前記脱ガスされた前記基体の第1の面に前記第1成膜室において第1の膜材料を成膜する段階、
d) 前記第1の膜材料が成膜された前記基体を、前記第2ロール室から前記第1ロール室へ向う第2の方向で前記第2成膜室へ案内し、前記第2の方向に案内中の前記基体の前記第1の面とは反対側の第2の面に前記第2成膜室において第2の膜材料を成膜する段階、
e) 前記第1の面に前記第1の膜材料が成膜され且つ前記第2の面に前記第2の膜材料が成膜された前記基体を前記第1ロール室と前記第2ロール室の間に設けた第3ロール室でロール状に巻取る段階、
f) 前記第3ロール室で巻き取った前記基体を前記第1の方向に前記第1ロール室から繰り出す段階、
g) 繰り出された前記基体を前記第1の方向で前記第1成膜室へ案内し、前記第1の方向に案内中の前記基体の前記第1又は第2の面に前記第1成膜室において第3の膜材料を成膜する段階、
h) 前記第3の膜材料が成膜された前記基体を、前記第2の方向で前記第2成膜室へ案内し、前記第2の方向に案内中の前記基体の前記第2又は第1の面に前記第2成膜室において第4の膜材料を成膜する段階、
i) 前記基体の前記第1の面において前記第1の膜材料の上に前記第3又は第4の膜材料が積層され、前記基体の前記第2の面において前記第2の膜材料の上に前記第4又は第3の膜材料が積層された前記基体を前記第3ロール室でロール状に巻取る段階、
を有することを特徴とする製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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