特許
J-GLOBAL ID：201603017807598083
ポジ型レジスト材料、重合性モノマー、高分子化合物並びにこれを用いたパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
, 石川 武史
, 正木 克彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-144400
公開番号（公開出願番号）：特開2015-018068
特許番号：特許第6003833号
出願日： 2013年07月10日
公開日（公表日）： 2015年01月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、下記一般式(1)で示される繰り返し単位とを含む重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。
(式中、R1は水素原子、又は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシロキシ基又はアルコキシカルボニル基、R2は水素原子又はメチル基であり、mは1又は2である。)
IPC (3件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, C08F 220/30 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, C08F 220/30
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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