特許
J-GLOBAL ID：200903028251295953
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-324528
公開番号（公開出願番号）：特開2009-086684
出願日： 2008年12月19日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：
【課題】特に半導体デバイス等の製造において、高解像力に加えて高感度、プロファイル形状が良好な電子線又はX線用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】重量平均分子量が3,000を超え、300,000以下であり特定の構造を有するアルカリ可溶性樹脂または酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とする電子線またはX線用化学増幅系ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、及び、
(b)重量平均分子量が3,000を超え、300,000以下であり、更に、
下記条件(1)および(2)を満たすアルカリ可溶性樹脂
(1)炭素数6以上20以下の芳香環及び該芳香環に直接あるいは連結基を介し
て結合したエチレン性不飽和基を有するモノマーから誘導される繰り返し単位を
少なくとも一種有すること
(2)該芳香環のπ電子と芳香環上の置換基の非共有電子対の電子数の間に次の
関係が成り立つこと
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB03
, 2H025AB15
, 2H025AB16
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF15
, 2H025BG00
, 2H025BJ04
, 2H025BJ05
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025FA10
, 2H025FA12
, 2H025FA17
出願人引用 (16件)
-
米国特許第4491628号明細書
-
欧州特許第249139号明細書
-
特開昭59-43439号公報
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審査官引用 (7件)
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