X線分析方法及びX線撮像装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：井上学 , 戸田裕二 , 岩崎重美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-502614
特許番号：特許第6038278号
出願日： 2013年02月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】入射X線ビームを、結晶の回折により被写体が設置された第一の光路と、遮蔽板が設置された第二の光路に分割し、上記第一の光路を経て得られたX線と、上記第二の光路を経て得られたX線を結晶の回折により再び結合・干渉させて、前記被写体の像を得るX線撮像方法において、前記遮蔽板のない状態で上記被写体の位相分布像を測定する第一の工程と、前記遮蔽板により前記第二の光路を遮蔽し,かつ前記第一の光路が結晶の回折条件からはずれた状態で上記被写体の吸収像を測定する第二の工程と、得られた前記位相分布像と前記吸収像に基づいて、上記被写体の像を得る第三の工程を含むことを特徴とするX線撮像方法。

IPC (1件)：