浮遊帯域溶融装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人SSINPAT
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-038842
公開番号（公開出願番号）：特開2017-154919
出願日： 2016年03月01日
公開日（公表日）： 2017年09月07日
要約：

【課題】赤外線の照射源として半導体レーザモジュールを使用し、集光域のサイズを任意に連続的に可変可能で効率的に単結晶を育成することのできる浮遊帯域溶融装置の提供。【解決手段】赤外線のレーザ光を照射する半導体レーザモジュール30と、半導体レーザモジュール30から照射された赤外線20のレーザ光を所望のサイズの平行光にし、さらに前記平行光を集光させて試料棒14に照射する集光系と、を備え、前記集光系が複数のシリンドリカルレンズ52,54,56,58からなるシリンドリカルレンズ群50と、シリンドリカルレンズ群50と試料棒14との間に位置する集光レンズ62と、を有し、集光レンズ62は、可変調整部70を介して試料棒14に対する相対位置を可変調整できるよう構成され、赤外線20を試料棒14に照射、加熱溶融して融液を得、前記融液を種子結晶上に固化させて単結晶を育成する赤外線集中加熱式の浮遊帯域溶融装置10。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

赤外線を試料棒に照射して加熱溶融することで融液を得て、前記融液を種子結晶上に固化させて単結晶を育成する赤外線集中加熱式の浮遊帯域溶融装置であって、前記浮遊帯域溶融装置は、前記赤外線のレーザ光を照射する半導体レーザモジュールと、前記半導体レーザモジュールから照射された赤外線のレーザ光を所望のサイズの平行光にし、さらに前記平行光を集光させて前記試料棒に照射する集光系と、を少なくとも備え、前記集光系が、複数のシリンドリカルレンズからなるシリンドリカルレンズ群と、前記シリンドリカルレンズ群と前記試料棒との間に位置する集光レンズと、を有し、前記集光レンズは、可変調整部を介して前記試料に対する相対位置を可変調整できるよう構成されていることを特徴とする浮遊帯域溶融装置。

IPC (2件)：

C30B 13/24 , H01L 21/268

FI (2件)：

C30B13/24 , H01L21/268 J

Fターム (6件)：

4G077AA02 , 4G077BA04 , 4G077CE03 , 4G077CE05 , 4G077EG15 , 4G077NE01

引用特許：

審査官引用 (7件)

単結晶製造方法および製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-329844 出願人：株式会社村田製作所
金属表面から酸化物を除去する方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-068783 出願人：アームコ・インコーポレイテッド
レーザー加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-005585 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所

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