特許
J-GLOBAL ID：201703008016813876

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、それに用いるポリフェノール化合物及びそれから誘導され得るアルコール化合物

発明者：
越後 雅敏

越後 雅敏 について

, 
山川 雅子

山川 雅子 について


出願人/特許権者：
三菱瓦斯化学株式会社

三菱瓦斯化学株式会社 について


代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  内藤 和彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-165657
公開番号（公開出願番号）：特開2017-025075
特許番号：特許第6217817号
出願日： 2016年08月26日
公開日（公表日）： 2017年02月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】一般式(30)又は一般式(40)で示されるポリフェノール化合物。 (一般式(30)中、X'は、トシル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、シクロヘキシルフェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフチル基、アントラシル基、フェナントリル基、及び、ピレニル基から選ばれる少なくとも一種であり、R0は、それぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル基又はハロゲン原子であり、同一のナフタレン環において同一であっても異なっていてもよく、pは0〜5の整数である。 一般式(40)中、X'は、フェニル基、トシル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、シクロヘキシルフェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフチル基、アントラシル基、フェナントリル基、及び、ピレニル基から選ばれる少なくとも一種であり、R0は、それぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル基又はハロゲン原子であり、同一のナフタレン環において同一であっても異なっていてもよく、pは0〜5の整数である。)
IPC (9件)：
C07C 39/14 ( 200 6.01) ,  C08G 65/28 ( 200 6.01) ,  C07C 39/17 ( 200 6.01) ,  C07C 37/20 ( 200 6.01) ,  C07D 311/78 ( 200 6.01) ,  C07D 311/96 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  G03F 7/038 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (9件)：
C07C 39/14 CSP ,  C08G 65/28 ,  C07C 39/17 ,  C07C 37/20 ,  C07D 311/78 ,  C07D 311/96 ,  G03F 7/004 531 ,  G03F 7/038 601 ,  C07B 61/00 300
引用特許：
出願人引用 (10件)
全件表示
審査官引用 (10件)
全件表示
引用文献：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM